TOP

星弧等离子体技术在LED制作工艺中的应用
    LED是可直接将电能转化为可见光的发光器件,它有着体积小、耗电量低、使用寿命长、发光效率高、高亮度低热量、环保、坚固耐用及可控性强等诸多优点,发展突飞猛进,现已能批量生产整个可见光谱段各种颜色的高亮度、高性能产品。近几年,LED广泛用于大面积图文显示幕,状态指示、标志照明、信号显示、汽车组合尾灯及车内照明等方面,被誉为21世纪新光源。但在芯片制作,去胶,封装等过程中存在着许多问题需要人们解决。等离子体技术作为解决问题的有效途径正随之发展起来。 

  星弧反应离子刻蚀技术在芯片制作过程中的应用 

  通常,干法刻蚀可分为三类:溅射刻蚀,等离子体刻蚀和反应离子刻蚀。溅射刻蚀的特点是物理作用,其方向性好,但选择性差;等离子刻蚀的特点是化学作用,这种工艺各向异性差,且过刻蚀时,易产生钻蚀。 

  把物理作用的溅射刻蚀与化学反应的等离子刻蚀结合起来,就是反应离子刻蚀(RIE)。反应离子刻蚀的机理就是RF 溅射刻蚀工艺通以反应气体或掺入反应性气体于惰性气体之中,因而刻蚀既有离子轰击作用,又有化学反应,所以,速度快、选择性好和方向性均好。 

  它在多晶矽、矽、二氧化矽、氮化矽、光刻胶、金属及金属矽化物等中得到广泛的应用。根据所需刻蚀材料的不同通过选用不同的工作气体进行蚀刻。 

  星弧Star-RIE反应离子刻蚀设备采用反应离子刻蚀技术与多层蚀刻技术,在保证刻蚀均匀达到10%以下的基础上,大大增加了产能(一炉次可加工2 寸芯片150-200pcs)。与此同时,Star-RIE 设备采用了大功率的射频电源(0-1000W),且回馈系数可控制在0.1%以下,提高了生产效率。 

您看到此篇文章时的感受是:
Tags:性好 过程中 高亮度 各向异性 责任编辑:admin
】【打印繁体】【投稿】【收藏】 【推荐】【举报】【评论】 【关闭】 【返回顶部
分享到QQ空间
分享到: 
上一篇没有了 下一篇盘点:2011年LED芯片产业投资状况

评论

帐  号: 密码: (新用户注册)
验 证 码:
表 情:
内  容:

相关栏目

最新文章

热门文章

推荐文章

相关文章